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常見的壓力傳感器芯體材質(zhì)介紹

點(diǎn)擊次數(shù):606 更新時(shí)間:2021-12-22
  壓力傳感器的芯體材質(zhì)品種繁多,下面簡(jiǎn)單介紹下幾種芯體材質(zhì)的性能。
 
  一、單晶硅
 
  硅在集成電路和微電子器件生產(chǎn)中有著廣泛的應(yīng)用,主要是利用硅的電學(xué)特性;在MEMS微機(jī)械結(jié)構(gòu)中,則是利用其機(jī)械特性,繼而產(chǎn)生新一代的硅機(jī)電器件和裝置。硅材料儲(chǔ)量豐富,成本低。硅晶體生長(zhǎng)容易,并存在超純無雜的材質(zhì),不純度在十億分這一的量級(jí),因而本身的內(nèi)耗小,機(jī)械品質(zhì)因數(shù)可高達(dá)10^6數(shù)量級(jí)。設(shè)計(jì)得當(dāng)?shù)奈⒒顒?dòng)結(jié)構(gòu),如微傳感器,能達(dá)到較小的遲滯和蠕變、較佳的重復(fù)性和長(zhǎng)期穩(wěn)定性以及高可靠性。所以用硅材制作硅壓阻壓力傳感器,有利于解決長(zhǎng)困擾傳感器領(lǐng)域的3個(gè)難題——遲滯、重復(fù)性及長(zhǎng)期漂移。
 
  硅材料密度為2.33g/cm^2,是不銹鋼密度的1/3.5,而彎曲強(qiáng)度卻為不銹鋼的3.5倍,具有較高的強(qiáng)度/密度比和較高的剛度/密度比。單晶硅具有很好的熱導(dǎo)性,是不銹鋼的5倍,而熱膨脹系數(shù)則不到不銹鋼的1/7,能很好地和低膨脹Invar合金連接,并避免熱應(yīng)力產(chǎn)生。單晶硅為立方晶體,是各向異性材料。許多機(jī)械特性和電子特性取決于晶向,如彈性模量和壓阻效應(yīng)等。
 
  單晶硅的電阻應(yīng)變靈敏系數(shù)高。在同樣的輸入下,可以得到比金屬應(yīng)變計(jì)更高的信號(hào)輸出,一般為金屬的10-100倍,能在10^-6級(jí)甚至10^-8級(jí)上敏感輸入信號(hào)。硅材料的制造工藝與集成電路工藝有很好的兼容性,便于微型化、集成化及批量生產(chǎn)。硅可以用許多材料覆蓋,如氮化硅,因而能獲得優(yōu)異的防腐介質(zhì)的保護(hù)。具有較好的耐磨性。
 
  綜上所述,硅材料的優(yōu)點(diǎn)可歸為:優(yōu)異的機(jī)械特性;便于批量微機(jī)械結(jié)構(gòu)和微機(jī)電元件;與微電子集成電路工藝兼容;微機(jī)械和微電子線路便于集成。
 
  正是這些優(yōu)點(diǎn),使硅材料成為制造微機(jī)電和微機(jī)械結(jié)構(gòu)較主要的優(yōu)選材料。但是,硅材料對(duì)溫度較為敏感,其電阻溫度系統(tǒng)接近于2000×10^-6/K的量級(jí)。因此,凡是基于硅的壓阻效應(yīng)為測(cè)量原理的傳感器,必須進(jìn)行溫度補(bǔ)償,這是不利的一面;而可利用的一面則是,在測(cè)量其他參數(shù)的同時(shí),可以直接對(duì)溫度進(jìn)行測(cè)量。
 
  二、多晶硅
 
  多晶硅是許多單晶(晶粒)的聚合物。這些晶粒的排列是無序的,不同晶粒有不同的單晶取向,而每一晶粒內(nèi)部有單晶的特征。晶粒與晶粒之間的部位叫做晶界,晶界對(duì)其電特性的影響可以通過摻雜原子濃度調(diào)節(jié)。多晶硅膜一般由低壓化學(xué)氣相淀積(LPVCD)法制作而成,其電阻率隨摻硼原子濃度的變化而發(fā)生較大變化。多晶硅膜的電阻率比單晶硅的高,特別在低摻雜原子濃度下,多晶硅電阻率迅速升高。隨摻雜原子濃度不同,其電阻率可在較寬的數(shù)值范圍內(nèi)變化。
 
  多晶硅具有的壓電效應(yīng):壓縮時(shí)電阻下降,拉伸時(shí)電阻上升。多晶硅電阻應(yīng)變靈敏系統(tǒng)隨摻雜濃度的增加而略有下降。其中縱向應(yīng)變靈敏系數(shù)較大值約為金屬應(yīng)變計(jì)較大值的30倍,為單晶硅電阻應(yīng)變靈敏系數(shù)較大值的1/3;橫向應(yīng)靈敏系數(shù),其值隨摻雜濃度出現(xiàn)正負(fù)變化,故一般都不采用。此外,與單晶硅壓阻相比,多晶硅壓阻膜可以在不同的材料襯底上制作,如在介電體(SiO2、Si3N4)上。其制備過程與常規(guī)半導(dǎo)體工藝兼容,且無PN結(jié)隔離問題,因而適合更高工作溫度(t≥200℃)場(chǎng)合使用。在相同工作溫度下,多晶硅壓阻膜與單晶硅壓阻膜相比,可更有效地抑制溫度漂移,有利于長(zhǎng)期穩(wěn)定性的實(shí)現(xiàn)。多晶硅電阻膜的準(zhǔn)確阻值可以通過光刻手段獲得。
 
  綜上所述,多晶硅膜具有較寬的工作溫度范圍(-60~+300℃),可調(diào)的電阻率特性、可調(diào)的溫度系數(shù)、較高的應(yīng)變靈敏系數(shù)及能達(dá)到準(zhǔn)確調(diào)整阻值的特點(diǎn)。所以在研制微傳感器和微執(zhí)行器時(shí),利用多晶硅膜這些電學(xué)特性,有時(shí)比只用單晶硅更有價(jià)值。例如,利用機(jī)械性能優(yōu)異的單晶硅制作感壓膜片,在其上覆蓋一層介質(zhì)膜SiO2,再在SiO2上淀積一層多晶硅壓阻膜。這種混合結(jié)構(gòu)的微型壓力傳感器,發(fā)揮了單晶硅和多晶硅材料各自的優(yōu)勢(shì),其工作高溫至少可達(dá)200℃,甚至300℃;低溫為-60℃。
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